多项选择题
光刻是集成电路制造最重要的工艺，是因为（）。
A.光刻耗费时间最多B.光刻耗费时间最少C.光刻决定了特征尺寸D.光刻成本最高
单项选择题 现代光刻工艺有10个步骤，其中4个是热处理步骤，下列哪个热处理顺序是正确的？（）
多项选择题 Si3N4薄膜的特性有（）。
多项选择题 Si3N4薄膜的用途有（）。
