多项选择题
Si3N4薄膜的特性有（）。
A.针孔少B.对底层金属可保形覆盖C.介电常数较大D.扩散掩蔽能力强
多项选择题 Si3N4薄膜的用途有（）。
多项选择题 实现CVD工艺保形覆盖的关键因素有（）。
多项选择题 CVD制备SiO2的方法有（）。
