判断题 LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。

判断题 高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。

判断题 CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。