名词解释
化学气相沉积(CVD)
化学气相沉积是利用电阻加热、等离子体、光辐射等能源使某些气态物质发生化学反应,生成固态物质并沉积在衬底表面形成薄膜的过程......
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问答题 为什么多晶硅的干法刻蚀要采用氯基气体而不是氟基气体?
问答题 为什么0.25微米以下工艺的干法刻蚀需要高密度等离子体?
问答题 简述ULSI对刻蚀的要求。