多项选择题
以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）
A.湿法刻蚀B.溅射刻蚀C.等离子体刻蚀D.反应离子刻蚀
多项选择题 先进的光刻技术有（）
多项选择题 光刻胶的主要性能指标有（）
多项选择题 光刻胶的主要成分有（）
