问答题
什么是局部氧化？有什么作用？
Si集成电路中、通过选择氧化的工艺来形成隔离区的一种方法。作用：1.提高场区阈值电压；
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问答题 简述双极型工艺流程。
问答题 光刻的步骤是哪些？
问答题 简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
