问答题
列出并描述两种主要的光刻胶。
负性光刻胶和正性光刻胶。负性光刻胶是负相的掩膜图形形成在光刻胶上、正相掩膜图形出现在光刻胶上。
问答题 给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
问答题 列出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。
问答题 解释亮场掩膜版和暗场掩膜版。