填空题
离子注入在衬底中产生的损伤主要有（）等三种。
点缺陷、非晶区、非晶层
填空题 常规平面工艺扩散工序中的恒定表面源扩散过程中，杂质在体内满足（）函数分布。常规平面工艺扩散工序中的有限表面源扩散过程中，杂质在体内满足（）函数分布。
填空题 制备SiO2的方法有（）、（）、（）、（）、（）等。
填空题 在SiO2内和Si-SiO2界面存在有（）、（）、（）、（）等电荷。
