多项选择题
1990’s CMOS IC 工艺技术特征是（）。
A.浅槽隔离工艺B.铝栅工艺C.多晶硅栅工艺D.硅外延片衬底
多项选择题 Stepper的优点有（）。
多项选择题 对非光学曝光表述正确的是（）。
多项选择题 对移相掩膜（PSM）表述正确的是（）。
