欢迎来到财会考试题库网 财会考试题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

单项选择题

对晶向为<111>,6英寸N型半导体材料来说,()是作为放置第一步的光刻图形的掩膜版的依据。

    A.主平面
    B.次平面
    C.两表平面均可
    D.定位槽

点击查看答案&解析

相关考题

微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题