问答题
简答题
与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？
【参考答案】
普通溅射法有两个缺点：一是溅射方法淀积薄膜的速率低；二是所需的工作气压较高，这两者综合效果是气体分子对薄膜产生的污染的可......
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