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单项选择题
Si中掺金的工艺主要用于制造（）器件。
A.高可靠性
B.高频
C.大功率
D.高电压 -
单项选择题
若某半导体导带中电子出现几率为零，则此半导体必定（）。
A.处于绝对零度
B.不含任何杂质
C.不含任何缺陷
D.不含施主 -
单项选择题
II-VI族化合物中的M空位Vm是（）。
A.点阵中的金属原子间隙
B.一种在禁带中引入施主的点缺陷
C.点阵中的点阵中的金属原子空位
D.一种在禁带中引入受主的位错
