单项选择题
在涂胶过程中，要想得到较厚的光刻胶，在选择光刻胶和设置转速时需要注意（）
A.选择较高的黏度和较低的转速
B.选择较低的黏度和较低的转速
C.选择较高的黏度和较高的转速
D.选择较低的黏度和较高的转速
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单项选择题
光刻的流程正确的是（）
A.①⑥④③⑤②⑧⑦
B.①⑥④③⑧⑤②⑦
C.①⑥④②③⑤⑧⑦
D.①⑥⑤②④③⑧⑦ -
单项选择题
目前掩膜版最常用的涂覆材料是（）
A.二氧化硅
B.硅
C.铬
D.金 -
单项选择题
目前，（）一直是形成光刻图形常用的能量源。
A.黄光
B.白光
C.紫外光
D.蓝光
