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单项选择题
目前掩膜版最常用的涂覆材料是（）
A.二氧化硅
B.硅
C.铬
D.金 -
单项选择题
目前，（）一直是形成光刻图形常用的能量源。
A.黄光
B.白光
C.紫外光
D.蓝光 -
单项选择题
请选择光刻的正确操作步骤（）
A.预处理→涂胶→对准和曝光→软烘→曝光后烘焙→显影→坚膜烘焙→显影检查
B.预处理→涂胶→坚膜烘焙→对准和曝光→曝光后烘焙→显影→软烘→显影检查
C.预处理→涂胶→软烘→对准和曝光→曝光后烘焙→显影→坚膜烘焙→显影检查
D.预处理→涂胶→对准和曝光→软烘→曝光后烘焙→坚膜烘焙→显影→显影检查
