相关考题
-
单项选择题
在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD -
判断题
提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。 -
判断题
MBE只能用于III-V族化合物的生长。
