问答题
简答题
列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。
【参考答案】
掺杂剂量（Predeposition dose）：单位面积硅片内的杂质数。
对于恒定表面源扩散，由于......
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