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单项选择题
对于0.25um及以下的隔离技术采用以下（）方式。
A.局部氧化隔离
B.PN结隔离
C.PN结-介质隔离
D.浅槽隔离 -
单项选择题
WCVD工艺第一步是（）。
A.浸润
B.成核
C.BULK
D.直接反应 -
单项选择题
Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。
A.金属Al
B.金属钛
C.金属氮化钛
D.金属钨
