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单项选择题
集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于（）。
A.元器件的组成部分（如栅氧化层）
B.源漏极
C.互连层间绝缘介质
D.作为掩蔽膜 -
单项选择题
以下对集成电路版图设计中几何设计规则描述不正确的是（）。
A.几何设计规则是版图图形编辑的依据
B.几何设计规则是设计系统生成版图的依据
C.几何设计规则是分析计算的依据
D.几何设计规则是检查版图错误的依据 -
单项选择题
以下不是影响刻蚀质量的主要因素是（）。
A.粘附性
B.刻蚀温度
C.刻蚀时间
D.刻蚀槽的高度
