欢迎来到财会考试题库网
财会考试题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
集成电路技术
>
集成电路技术综合练习
搜题找答案
问答题
简答题
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
【参考答案】
P阱光刻,光刻有源区,光刻多晶硅,P+区光刻,N+区光刻,光刻接触孔,光刻铝线。
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。
问答题
在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是?
问答题
简述四层三结的结构的双极型晶体管中隐埋层的作用。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题