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全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 半导体集成电路

问答题

简答题

试说明MOS工艺中存在的自对准结构及他们的主要优点。

    【参考答案】

    源漏的自对准注入(LDD):在硅栅工艺中,利用多晶硅栅的掩蔽作用自对准地进行源漏区的杂质注入,并同时完成多晶硅栅的杂质注......

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