问答题
解释有限表面源扩散，列出有限表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。
扩散前先在硅片表面淀积一定数量的杂质，然后在整个扩散过程中将这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新源补充，这种扩散方式称为有......
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问答题 列出恒定表面源扩散的三种主要工艺参数，并说明其含义和主要影响因素。
问答题 什么是恒定表面源扩散？其扩散形成的结深主要受哪些因素的影响？其中哪一个影响最主要？为什么？
问答题 解释扩散系数及其物理含义，并说明影响扩散系数的主要因素是什么，及如何影响？
