问答题
简述低压CVD系统（LPCVD）的优缺点。
反应速度限制为主、温度控制要求高。优点：膜致密、颗粒少，硅片可密集摆放，台阶覆盖较好（主要决定于反应气体）。......
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问答题 简述常压CVD系统（APCVD）的优缺点。
问答题 简述什么是异类反应和同类反应？
问答题 描述CVD生长的简化过程。写出影响CVD生长速率的因素。
