问答题
简述常压CVD系统（APCVD）的优缺点。
质量输运限制为主、气流控制要求高。优点：沉积速度高。缺点：膜致密性差、颗粒多，气体消耗大、硅片不......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 简述什么是异类反应和同类反应？
问答题 描述CVD生长的简化过程。写出影响CVD生长速率的因素。
问答题 简述集成电路对薄膜的要求。
