问答题
描述CVD生长的简化过程。写出影响CVD生长速率的因素。
影响CVD生长速率的因素:①质量传输限制(常压CVD);②表面反应限制(低压CVD);③CVD气流动力学;④......
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问答题 简述集成电路对薄膜的要求。
名词解释 化学气相沉积(CVD)
问答题 为什么多晶硅的干法刻蚀要采用氯基气体而不是氟基气体?