多项选择题
下列关于LPCVD的描述正确的有（）。
A.扩散控制B.严格控制温度C.反应控制D.低温淀积工艺
多项选择题 影响淀积速率的因素有（）。
多项选择题 Grove模型建模时，关注的主要运动形式有（）。
多项选择题 以下关于CVD的描述正确的有（）。
