问答题
什么是硅栅自对准技术？简单说明其主要制作步骤和主要优点。
是一种在晶圆片上用单个掩模形成不同区域的的多层结构的技术，是一种可将两次MASK步骤合为一次，让多个不同区域一次成形的工......
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问答题 试说明在CMOS工艺中主要采用的器件隔离技术，并说明每种工艺技术的主要特点和适用范围。
问答题 什么是浅槽沟道隔离？其主要作用是什么？说明其主要优点及适用工艺范围？
问答题 工艺最后生长在顶层的介质层称为什么？有什么材料构成？其主要作用是什么？
