问答题
简述在先进的CMOS工艺中,离子注入的应用。
①深埋层注入;②倒掺杂阱注入;③穿通阻挡层注入;④阈值电压调整注入;⑤轻......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 简述离子注入退火目的与方法。
问答题 简述离子注入效应。
问答题 简述离子注入工艺相对于热扩散工艺的优缺点。