问答题
试说明MOS工艺中存在的自对准结构及他们的主要优点。
源漏的自对准注入（LDD）：在硅栅工艺中，利用多晶硅栅的掩蔽作用自对准地进行源漏区的杂质注入，并同时完成多晶硅栅的杂质注......
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问答题 什么是硅栅自对准技术？简单说明其主要制作步骤和主要优点。
问答题 试说明在CMOS工艺中主要采用的器件隔离技术，并说明每种工艺技术的主要特点和适用范围。
问答题 什么是浅槽沟道隔离？其主要作用是什么？说明其主要优点及适用工艺范围？
