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单项选择题
常用的干法去胶方法有（）
A.溶剂去胶
B.氧化剂去胶
C.等离子去胶
D.介质去胶 -
单项选择题
湿法刻蚀中，（）的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。
A.硅
B.铝
C.二氧化硅
D.砷化镓 -
单项选择题
（）可以利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，从而把光刻胶上的图形转移到薄膜上的过程。
A.刻蚀
B.显影
C.去胶
D.坚膜
