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单项选择题
（）是指按照一定的方式将杂质掺入到半导体等材料中，改变材料电学性质，达到形成半导体器件的目的。
A.光刻
B.掺杂
C.刻蚀
D.金属化 -
单项选择题
常用的干法去胶方法有（）
A.溶剂去胶
B.氧化剂去胶
C.等离子去胶
D.介质去胶 -
单项选择题
湿法刻蚀中，（）的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。
A.硅
B.铝
C.二氧化硅
D.砷化镓
