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单项选择题
湿法刻蚀中，（）的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。
A.硅
B.铝
C.二氧化硅
D.砷化镓 -
单项选择题
（）可以利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，从而把光刻胶上的图形转移到薄膜上的过程。
A.刻蚀
B.显影
C.去胶
D.坚膜 -
单项选择题
在涂胶过程中，要想得到较厚的光刻胶，在选择光刻胶和设置转速时需要注意（）
A.选择较高的黏度和较低的转速
B.选择较低的黏度和较低的转速
C.选择较高的黏度和较高的转速
D.选择较低的黏度和较高的转速
