相关考题
-
判断题
通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。 -
单项选择题
光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。
A.对光刻精度较高
B.光刻图案密度较高
C.光刻的材料易于腐蚀
D.光刻的材料难以腐蚀 -
单项选择题
在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）
A.腐蚀
B.离子注入
C.光刻
D.CVD
