欢迎来到财会考试题库网 财会考试题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 半导体集成电路

问答题

简答题

试说明高压氧化技术的原理(或依据)及主要作用,并说明高低压氧化各自的控制机制和氧化层厚度的变化规律。

    【参考答案】

    常数B随压力线性变化,则在一定条件下,通过增加氧化剂分压来强迫氧原子以更快的速度穿越正在生长的氧化层,因而使线性和抛物线......

    (↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)

    点击查看答案
    微信小程序免费搜题
    微信扫一扫,加关注免费搜题

    微信扫一扫,加关注免费搜题